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首頁(yè) > SCI期刊 > 物理與天體物理期刊 > 中科院4區(qū) > SCIE期刊 > Japanese Journal Of Applied Physics(非官網(wǎng))

Japanese Journal Of Applied Physics SCIE

國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng):JPN J APPL PHYS  參考譯名:日本應(yīng)用物理學(xué)雜志

主要研究方向:物理-物理:應(yīng)用  非預(yù)警期刊  審稿周期: 約2.0個(gè)月

《日本應(yīng)用物理學(xué)雜志》(Japanese Journal Of Applied Physics)是一本由Japan Society of Applied Physics出版的以物理-物理:應(yīng)用為研究特色的國(guó)際期刊,發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評(píng)論文章和綜述文章,及時(shí)報(bào)道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn),旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開(kāi)放期刊,近三年沒(méi)有被列入預(yù)警名單。

  • 4區(qū) 中科院分區(qū)
  • Q3 JCR分區(qū)
  • 839 年發(fā)文量
  • 1.5 IF影響因子
  • 未開(kāi)放 是否OA
  • 116 H-index
  • 1962 創(chuàng)刊年份
  • Monthly 出版周期
  • English 出版語(yǔ)言

The Japanese Journal of Applied Physics (JJAP) is an international journal for the advancement and dissemination of knowledge in all fields of applied physics. JJAP is a sister journal of the Applied Physics Express (APEX) and is published by IOP Publishing Ltd on behalf of the Japan Society of Applied Physics (JSAP).

JJAP publishes articles that significantly contribute to the advancements in the applications of physical principles as well as in the understanding of physics in view of particular applications in mind. Subjects covered by JJAP include the following fields:

? Semiconductors, dielectrics, and organic materials

? Photonics, quantum electronics, optics, and spectroscopy

? Spintronics, superconductivity, and strongly correlated materials

? Device physics including quantum information processing

? Physics-based circuits and systems

? Nanoscale science and technology

? Crystal growth, surfaces, interfaces, thin films, and bulk materials

? Plasmas, applied atomic and molecular physics, and applied nuclear physics

? Device processing, fabrication and measurement technologies, and instrumentation

? Cross-disciplinary areas such as bioelectronics/photonics, biosensing, environmental/energy technologies, and MEMS

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Japanese Journal Of Applied Physics期刊信息

  • ISSN:0021-4922
  • 出版語(yǔ)言:English
  • 是否OA:未開(kāi)放
  • E-ISSN:1347-4065
  • 出版地區(qū):JAPAN
  • 是否預(yù)警:
  • 出版商:Japan Society of Applied Physics
  • 出版周期:Monthly
  • 創(chuàng)刊時(shí)間:1962
  • 開(kāi)源占比:0.0648
  • Gold OA文章占比:9.51%
  • OA被引用占比:0.0835...
  • 出版國(guó)人文章占比:0
  • 出版撤稿占比:0
  • 研究類(lèi)文章占比:93.80%

Japanese Journal Of Applied Physics CiteScore評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
3 0.307 0.631
學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi):Engineering 小類(lèi):General Engineering Q2 119 / 307

61%

大類(lèi):Engineering 小類(lèi):General Physics and Astronomy Q2 108 / 243

55%

名詞解釋?zhuān)?/b>CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù),是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個(gè)指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計(jì)算依據(jù)是期刊最近4年(含計(jì)算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如,2022年的 CiteScore 計(jì)算方法為:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對(duì)2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量 注:文獻(xiàn)類(lèi)型包括:文章、評(píng)論、會(huì)議論文、書(shū)籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Japanese Journal Of Applied Physics中科院評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院 2022年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院 2021年12月升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級(jí)版

Top期刊 綜述期刊 大類(lèi)學(xué)科 小類(lèi)學(xué)科
物理與天體物理 4區(qū) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū)

Japanese Journal Of Applied Physics JCR評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 134 / 179

25.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 140 / 179

22.07%

Japanese Journal Of Applied Physics歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

影響因子
中科院分區(qū)

Japanese Journal Of Applied Physics中國(guó)學(xué)者發(fā)文選摘

  • 1、Core and filamentary damage of fused silica induced by nanosecond laser at 1064 nm

    Author: Zhang, Fawang; Wang, Biyi; Liu, Xinyi; Xu, Man; Liu, Hufeng; Miao, Xinxiang; Lu, Tao; Qiu, Rong; Guo, Decheng; Zhou, Qiang; Jiang, Yong

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e4

  • 2、Improved performance of enhancement-mode GaN MIS-FET based on a self-terminating gate recess etching technique with in situ NH3 pre-treatment

    Author: Zhang, Bin; Wang, Jinyan; Li, Mengjun; Huang, Chengyu; He, Jiayin; Wang, Xin; Wang, Chen; Wang, Hongyue; Mo, Jianghui; Wang, Maojun; Wu, Wengang

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca3e3

  • 3、2D scalar wave modelling of apodized RF BAW resonators for transverse mode analysis

    Author: Wu, Ting; He, Yi-wen; Wong, Yu-po; Li, Wuping; Bao, Jing-fu; Hashimoto, Ken-ya

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d8

  • 4、Electrical and optical properties of highly crystalline W-VO2 nano-films prepared by thermal oxidation of V-WO3 precursors

    Author: Luo, Jie; Gong, Mengtao; Tian, Shouqin; Zhou, Lincan; Zheng, Tao; Zhao, Xiujian; Liu, Baoshun

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae68

  • 5、Investigation of PVT variation on single-event transient effect assisted with hardened layout techniques

    Author: Liang, Bin; Luo, Deng; Sun, Qian; Chen, Yanrong; Zhang, Kangkai; Chen, Wangyong

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca7a6

  • 6、TO1 soft mode in Fe doped beta-Ga2O3 studied by terahertz time-domain spectroscopy

    Author: Jiang, Hao; Wang, Ke; Gong, Chen; Murakami, Hironaru; Tonouchi, Masayoshi

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acae52

  • 7、Influence of anti-phase surface relief structure on optical mode and laser output power for 450 nm GaN-based VCSELs

    Author: Gao, Yuanbin; Chu, Chunshuang; Hang, Sheng; Zhang, Yonghui; Zhou, Jianwei; Zhang, Zi-Hui

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/acaba0

  • 8、Heterogeneous integration of lithium tantalate thin film on quartz for high performance surface acoustic wave resonator

    Author: Chen, Yang; Wu, Jinbo; Zhao, Xiaomeng; Li, Zhongxu; Ke, Xinjian; Zhang, Shibin; Zhou, Min; Huang, Kai; Ou, Xin

    Journal: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2023; Vol. 62, Issue 1, pp. -. DOI: 10.35848/1347-4065/aca5d7

免責(zé)聲明

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